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第209章 计算机辅助光刻掩膜工艺(1 / 2)

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法国巴黎。

北郊维勒潘特展览中心工业博览会会场。

设在偏僻角落里的中国馆却是人声鼎沸,除了各国参展的客商,还有推波助澜的媒体记者,很多人都是抱着看笑话的心态在围观……

巴黎领馆负责接机的同志,把莫铮领到代表团团长宋予乔面前,给双方做了简单的介绍。

“莫总,您终于来了,你看现场乱的,头皮都要炸了……”宋予乔顾不上寒暄,三言两语把情况做了介绍。

“走一步看一步吧!国内光刻机方面的技术专家会很快赶过来!我先过去看看……”

莫铮快速浏览完光刻机展品的各项技术参数,已经挤到人群中央。

“天哪!你们连光刻机的底层逻辑都不清楚,居然敢声称研发出了全球最先进的光刻机……”

“他们连水稻都敢亩产几万斤,何况一台无法验证的光刻机?”

“也不能一概而论,或许中国人是出于技术保密的缘故呢?”

“艾达,你不会真的相信一个因为封锁禁运,长期与外界隔绝的国家,能够研发出尖端的光刻机吧?”

“我觉得没有什么不可能,光刻机比原子弹还难吗?一个能够独立完成两弹一星的国家,研发出来光刻机,有什么不可能的?”

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