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第23章 中微公司688012的前世今生(1 / 2)

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萌芽:诞生背景与创业初心

2004 年,在上海这片充满创新活力的土地上,中微公司正式成立,宛如一颗新星在半导体领域崭露头角。彼时,全球半导体产业正处于高速发展的黄金时期,技术迭代日新月异,而中国的半导体设备产业却面临着诸多困境,核心技术被国外巨头牢牢把控,长期依赖进口,犹如被扼住了咽喉。

中微公司的创始人尹志尧,这位在半导体领域深耕多年的传奇人物,在硅谷积累了近 20 年的丰富经验,是半导体设备研发领域的资深专家 。他曾参与并主导了多项关键技术的研发,在国际半导体设备舞台上有着举足轻重的地位。然而,功成名就的他,心中始终怀揣着一个梦想 —— 回国创业,为中国半导体设备产业的崛起贡献自己的力量。

尹志尧深刻认识到,半导体产业作为现代信息技术的核心,是国家科技实力和经济竞争力的重要体现。而半导体设备作为产业发展的基石,其重要性不言而喻。他毅然决然地放弃了在硅谷的优厚待遇和舒适生活,带领着一支由 15 位志同道合的伙伴组成的团队,踏上了回国创业的征程,决心填补中国在高端半导体设备领域的空白。

中微公司从创立之初,就将目光瞄准了国际先进水平,以 “打造具有全球竞争力的高端半导体设备企业” 为愿景,致力于研发拥有自主知识产权的刻蚀机设备。在当时的环境下,这无疑是一项极具挑战性的任务。资金短缺、技术封锁、人才匮乏等难题接踵而至,但尹志尧和他的团队并没有被困难吓倒,他们凭借着坚定的信念和顽强的毅力,开始了艰苦卓绝的创业之路。

成长:发展历程中的关键节点

技术突破与产品落地(2007 - 2012 年)

创业初期,中微公司将全部精力都投入到了刻蚀机的研发之中。经过无数个日夜的艰苦攻关,2007 年,中微公司迎来了第一个重大里程碑 —— 首台 CCP(电容性等离子体)刻蚀设备研制成功,并顺利交付给国内客户。这一成果标志着中微公司成功打破了国外企业在刻蚀设备领域的技术垄断,填补了国内高端半导体设备的空白,为中国半导体产业的发展注入了一剂强心针。

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